一、PL400/PL600納米壓印機(jī)技術(shù)特點(diǎn)：

? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理

? 低于10納米分辨率，產(chǎn)率高達(dá)99％

? 一步自動(dòng)釋放功能，可防止分離過程中模具/基材損壞，使壓印產(chǎn)量增大

? 支持各種類型的硬模和軟模

? 可變模具和基材尺寸，靈活方便

? 可編程PLC，通過自定義參數(shù)進(jìn)行過程控制，帶觸摸屏用戶界面

? 對(duì)準(zhǔn)功能選項(xiàng)

? 多種工藝，適用于各種應(yīng)用光學(xué)器件，顯示器，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)，生物醫(yī)學(xué)器件，半導(dǎo)體IC，化學(xué)合成和*材料等

? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對(duì)硬度或厚度沒有限制，并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容

本納米壓印是一個(gè)獨(dú)立的納米壓印機(jī)包括自動(dòng)釋放™功能的納米壓印模塊和自動(dòng)壓印控制器。程序控制，用戶可自由設(shè)置工藝參數(shù)，晶圓與模板由真空卡盤固定，兼容傳統(tǒng)的UV固化壓印膠工藝，可以快速的實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下的壓印。可以處理各種不同形狀、滿足直徑100mm的模版和基片處理。只需要手動(dòng)裝入和取出模板和基片，其余的操作都是自動(dòng)化進(jìn)行，同時(shí)附帶軟件還提供了詳細(xì)的參數(shù)設(shè)置。

二、PL400/PL600納米壓印機(jī)技術(shù)參數(shù)

1.1模版尺寸：4/6英寸，兼容1~4/6英寸圓片和不規(guī)則的材料；

*1.2基底尺寸：4/6英寸，兼容1~4/6英寸圓片和不規(guī)則的材料；

1.3壓印模式：硬壓印和軟壓印；

*1.4壓印分辨率：小于10nm；

1.5壓印壓力：14 psi -17psi，可編程；

1.6壓印區(qū)域：最大4英寸的基底材料；

1.7模版：內(nèi)置自動(dòng)分離模版功能；

1.8對(duì)準(zhǔn)精度：1μm，取決于工藝；

1.9程序控制：PLC程序控制，壓印時(shí)間和壓力可編程；

1.10對(duì)準(zhǔn)和移動(dòng)范圍：X，Y和Z+/- 5mm，?:+/- 5°;

*1.11曝光系統(tǒng)：LED紫外線曝光，波長395nm，覆蓋9“x 9"區(qū)域，強(qiáng)度可編程，最大≥50mW/cm2，曝光時(shí)間也可編程；

三、納米壓印機(jī)的應(yīng)用

納米壓印技術(shù)憑借其高分辨率和低成本特性，廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域：

1.半導(dǎo)體與集成電路

制造高密度存儲(chǔ)芯片（如NAND閃存、MRAM）。

光子集成電路（如硅光器件、光柵耦合器）。

優(yōu)勢(shì)：替代傳統(tǒng)EUV光刻，降低優(yōu)良制程成本。

2.光學(xué)器件與顯示技術(shù)

增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)（AR）衍射光波導(dǎo)。

液晶顯示（LCD）導(dǎo)光板微結(jié)構(gòu)。

超表面透鏡（Metalens）的納米天線陣列。

優(yōu)勢(shì)：實(shí)現(xiàn)復(fù)雜光學(xué)結(jié)構(gòu)的低成本批量生產(chǎn)。

3.生物醫(yī)學(xué)與傳感器

微流控芯片（Lab-on-a-Chip）的納米通道。

表面增強(qiáng)拉曼散射（SERS）基底。

生物分子檢測的納米孔陣列。

優(yōu)勢(shì)：高精度結(jié)構(gòu)提升檢測靈敏度與特異性。

4.新能源與柔性電子

鈣鈦礦太陽能電池的納米陷光結(jié)構(gòu)。

柔性電子（如可穿戴傳感器）的導(dǎo)電圖案。

透明導(dǎo)電膜（如銀納米線網(wǎng)格）。

優(yōu)勢(shì)：兼容柔性基材（PET、PI），支持卷對(duì)卷（R2R）工藝。

5.防偽與裝飾

包裝的全息防偽標(biāo)簽。

奢侈品表面的納米紋理裝飾（如抗指紋、啞光效果）。

優(yōu)勢(shì)：微結(jié)構(gòu)可定制化，難以復(fù)制。