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當(dāng)前位置：首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 掩膜曝光光刻機(jī) > Mask Aligner光刻機(jī) > L-100和M-100韓國(guó)Mask Aligner光刻機(jī)
簡(jiǎn)要描述：光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。
產(chǎn)品型號(hào)：L-100和M-100 廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2025-07-02訪 問(wèn) 量：2438詳細(xì)介紹
L-100
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。L-100專為4英寸晶圓而設(shè)計(jì)，具有硬接觸、軟接觸和真空接觸三種接觸方式。對(duì)準(zhǔn)器有一個(gè)365nm的UV LED光源。365nm處的光功率為20mW/cm ?？捎糜谏虡I(yè)半導(dǎo)體制造或大學(xué)實(shí)驗(yàn)室晶圓制造以及MEMS領(lǐng)域。
技術(shù)參數(shù)
類型 | PLC手動(dòng)控制系統(tǒng) | 波長(zhǎng) | 365 nm |
掩膜版尺寸 | 5英寸 | 紫外光強(qiáng)度 | 20 ? |
基片尺寸 | 4英寸晶圓 | 紫外線光束均勻度 | ≤3 % |
分辨率 | 1 ? | 接觸模式 | 真空/硬/軟 |
對(duì)準(zhǔn)精度 | 1 ? | 顯微鏡 | 雙CCD變焦顯微鏡 |
選配項(xiàng) | Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA |
M-100
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。M-100專為4英寸晶圓而設(shè)計(jì)，具有硬接觸、軟接觸和真空接觸三種接觸方式。對(duì)準(zhǔn)器有一個(gè)350W的紫外線光源。365nm處的光功率為25mW/cm ?？捎糜谏虡I(yè)半導(dǎo)體制造或大學(xué)實(shí)驗(yàn)室晶圓制造以及MEMS領(lǐng)域。
技術(shù)參數(shù)
類型 | PLC手動(dòng)控制系統(tǒng) | 波長(zhǎng) | 350 ~ 450 nm |
掩膜版尺寸 | 最大5*5英寸 | 紫外光強(qiáng)度 | 15 ~ 25/ ? |
基片尺寸 | 4英寸晶圓 | 紫外線光束均勻度 | 3 ~ 5 % |
分辨率 | 1 ? | 接觸模式 | 真空/硬/軟/接近 |
對(duì)準(zhǔn)精度 | 1 ? | 顯微鏡 | 雙CCD變焦顯微鏡 |
紫外燈和電源 | 350W | 選配項(xiàng) | Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA |
產(chǎn)品咨詢
聯(lián)系人：鄧經(jīng)理
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