產(chǎn)品概述

mr-NIL210系列是一款專為軟紫外納米壓印技術(shù)（soft UV-NIL）設(shè)計的光固化納米壓印膠，特別適配于PDMS類軟質(zhì)印章材料（推薦使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章）。其高精度、易操作的特性，使其成為圖案轉(zhuǎn)移工藝中理想的蝕刻掩模材料。

核心優(yōu)勢

1. 兼容性

l 適用于硅、二氧化硅、玻璃、藍(lán)寶石等多種基材，搭配專用底涂劑（如mr-APS1或Omnicoat）可進(jìn)一步提升附著力。

l 支持PDMS、PFPE等軟質(zhì)印章，以及硬質(zhì)聚合物印章（如OrmoStamp®），滿足多樣化工藝需求。

2. 高效光固化性能

l 紫外光波段（320–420 nm）下快速固化，氧氣環(huán)境影響極低。

l 推薦曝光劑量>1 J/cm2，支持汞燈或UV-LED光源（365–405 nm），固化速度隨光強提升而加快。

3. 精準(zhǔn)的膜厚控制

l 提供100nm、200nm、500nm三種標(biāo)準(zhǔn)厚度型號，旋涂工藝穩(wěn)定（3000 rpm，30秒），公差范圍小。

l 支持定制稀釋（推薦稀釋劑mr-T 1078），可靈活調(diào)整膜厚至更低范圍。

4. 工藝友好性

l 預(yù)烘條件溫和（60°C，3分鐘），減少溶劑殘留。

l 殘膠去除簡便：氧氣等離子體或濕法剝離（如piranha溶液）均可高效清除。

5. 高可靠性

l 無硅純有機(jī)成分，固化后形成熱固性聚合物網(wǎng)絡(luò)，穩(wěn)定性強。

l 存儲方便（15–25°C），保質(zhì)期6個月。

典型應(yīng)用場景

l 半導(dǎo)體器件制造：高分辨率圖案轉(zhuǎn)移，適用于納米級結(jié)構(gòu)蝕刻。

l 光學(xué)元件加工：藍(lán)寶石等硬質(zhì)基材上的微納結(jié)構(gòu)制備。

l 科研與教育：軟UV-NIL技術(shù)研究及原型開發(fā)。

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