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NXQ8000系列掩膜曝光機可在多種領(lǐng)域中應用NXQ8000系列掩膜曝光機全面滿足科學研究，工藝級生產(chǎn)等多領(lǐng)域的應用。*采用非接觸式100%標定系統(tǒng)，對晶圓和掩膜沒有傷害，大大提高間隙精度非接觸式掩膜對準機maskaligner適合各種電子元器件，包括半導體，LED,LD,MEMS，傳感器等。NXQ8000系列掩膜曝光機主要是用于光刻膠曝光。光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負膠...

美國CARVER熱壓機的操作檢修和安裝調(diào)試安全規(guī)程美國CARVER熱壓機的操作檢修安全規(guī)程1、美國CARVER熱壓機操作人員上機前必須進行崗前培訓，熟悉壓機性能后，方可操作熱壓機2、美國CARVER熱壓機操作和檢修時，必須時刻注意安全，嚴禁在沒有安全保護情況下把手等異物放入熱壓機內(nèi)。3、嚴禁熱壓機帶病工作，運行時發(fā)現(xiàn)故障要及時排除后，方可繼續(xù)使用。4、板件要放置在壓機油缸中間位置，嚴禁偏壓。如板件沒有放滿有效工作臺面，要用同厚度的板件墊滿，禁止懸空壓。5、經(jīng)常檢查液壓站、缸體...

德國Diener等離子清洗機等離子刻蝕物的處理一、德國Diener等離子清洗機金屬表面去油污并清洗金屬表面常常會有油脂、油污等有機物及氧化層，在進行濺射、油漆、粘合、鍵合、焊接、銅焊和PVD、CVD涂覆前，需要用等離子處理來得到*潔凈和無氧化層的表面。在這種情況下的等離子處理會產(chǎn)生以下效果：1.1灰化表面有機層表面會受到物理轟擊和化學處理（氧下圖）在真空和瞬時高溫狀態(tài)下，污染物部分蒸發(fā)污染物在高能量離子的沖擊下被擊碎并被真空泵抽出紫外輻射破壞污染物因為等離子處理每秒只能穿透幾...

不斷的突破Nanonex納米壓印光刻機的新技術(shù)Nanonex納米壓印光刻機工作原理和組成Nanonex納米壓印光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，不同光刻機的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖（即芯片）。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經(jīng)過一次光刻的芯片可以繼續(xù)涂膠...

促進MicroChem光刻膠研究開發(fā)和應用MicroChem光刻膠是芯片制造過程中的關(guān)鍵材料，芯片制造要根據(jù)具體的版圖（物理設(shè)計，layout）設(shè)計出掩模板，然后通過光刻（光線通過掩模板，利用光刻膠對裸片襯底等產(chǎn)生影響）形成一層層的結(jié)構(gòu)，后形成3D立體電路結(jié)構(gòu)，從而產(chǎn)生Die（裸片）。工藝的發(fā)展，光刻機的發(fā)展，材料學的同步發(fā)展才能促進摩爾定律的發(fā)展。MicroChem光刻膠是微電子技術(shù)中微細圖形加工的關(guān)鍵材料之一，特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大促進了光刻...

NOVASCAN紫外臭氧清洗機樣品應用化學改性NOVASCAN紫外臭氧清洗機主要應用：石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。微電子產(chǎn)品的表面清洗：微型馬達軸,磁頭驅(qū)動架,光盤,光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導體硅片,掩膜版。精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與...

NXQ4006光刻機工作過程詳細介紹1.打開NXQ4006光刻機電源開關(guān)，（右表板上標有“電源”字的開關(guān)），燈亮，氣壓表顯示數(shù)值。此時檢查左表板上的“系統(tǒng)真空”表，看是否保持真空度≥-0.07MPa以上，否則要檢查漏氣原因并消除之。2.打開汞燈電源（左表板上標有“汞燈”字樣的開關(guān)），指示燈亮。此時觀察電流表指針，直到指到4A左右，說明汞燈已點燃。zui少要15分鐘以后，汞燈亮度才能穩(wěn)定，操作者才能進行以下工作。3.調(diào)節(jié)NXQ4006光刻機氣壓（左表板）觀察進氣壓力，是否≥0....